目前中國還沒有成功生產首臺5納米光刻機，但是中國在5納米工藝節點方面的研發和生產已經取得了不少進展。光刻機是半導體工藝中的核心設備，主要用于制造集成電路中的微小結構。5納米工藝是目前最先進的工藝節點之一，可以制造出更快、更節能、更高性能的處理器和存儲器。

中國在5納米工藝方面的研發起步較晚，但是在近年來迅速追趕，已經取得了一些進展。例如，中國在華為公司的帶領下，成功開發了首款基于7納米工藝的手機芯片麒麟980，并在后續的麒麟990和麒麟1020等產品中繼續使用了7納米工藝。同時，中國企業也在積極研發更先進的工藝節點。

5納米工藝對光刻機的精度和穩定性要求非常高。由于5納米工藝的微小結構，需要使用更加精密的光刻技術進行制造。而目前市場上能夠生產5納米光刻機的公司主要是荷蘭ASML公司和日本尼康公司，他們在技術方面處于領先地位。然而，由于美國政府的管制，荷蘭ASML公司在向中國出口5納米光刻機時面臨一定的限制。因此，中國在自主研發和生產5納米光刻機方面仍然非常困難，需要一些時間。

中國在半導體工藝方面的研發和生產已經取得了不少進展，但是在面對更先進的工藝節點時，仍然需要不斷地進行技術創新和突破，才能夠與國際領先水平保持競爭力。中國首臺5納米光刻機成功生產了嗎？暫時自然還沒有。